梭式窑可控制还原气氛烧制陶瓷方法-淄博窑炉工程有限公司
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梭式窑可控制还原气氛烧制陶瓷方法

点击次数:   更新时间:20/08/17 11:02:08     来源:www.belloabogados.com关闭分    享:
  梭式窑作为一种间歇性窑炉,具有占地少、一次性投资少、生产灵活等优点,因而受到广大的中小型陶瓷企业的青睐。在烧制陶瓷制品时,为了达到所需的产品质量或外观要求,往往需要在烧制产品的不同温度阶段控制窑炉内具有不同的气氛。窑内的气氛分为三种,即氧化气氛、还原气氛、中性气氛。喷入窑炉内的燃料在一定的温度下与喷入窑内的空气发生氧化反应,当空气过量时,此时烟气内还含有一定的游离氧,窑内的气氛为氧化气氛;当刚好燃烧完全时,窑内的气氛为中性气氛;当空气量不足时,此时窑内烟气中还含有没有完全燃烧的CO、H等成分,窑内的气氛为还原气氛。在梭式窑的烧成过程当中气氛的控制对陶瓷生产质量的影响很大,特别是烧制青瓷时,要求在升到一定温度后、高温保温阶段以及在高温冷却时保持有一定浓度的还原气氛。但是对于梭式窑来说,操作上较容易在高温保温阶段产生氧化,原因是高温保温阶段一般喷入窑内的燃料量不多,只要保证维持温度不变即可,故无法保证足够的还原气氛,故即使在前期已经还原了的瓷片,亦会因还原气氛不足而进行二次氧化。特别是在高温冷却时,由于要求降温不能再喷入燃料,几乎没有什么手段可保证还原气氛或近中性气氛。
  在于克服上述现有技术的缺点和不足,提供在高温保温尤其是高温冷却时可以保证还原气氛,陶瓷烧成效果好的梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法。通过下述技术方案实现本梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法,步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑,在梭式窑温度为500~1400℃,保温30~60分钟时,将盛有1~2升水的敞口容器置于梭式窑下方的吸火口处,敞口容器的面积不小于吸火口的垂直投影面积。所述的敞口容器可以为任何形状,但必须保证可以盛放足够的水,其上部敞口可以为矩形、圆形、椭圆形、菱形、三角形等;其上部敞口的面积要足够大,以保证有足够的蒸发面积提供足够的水蒸汽;敞口容器的材质可以是已知的任何材质,只要是在窑炉底部并能接收窑内火焰的高温辐射不会发生软化变形即可,如不锈钢、铝、陶瓷等;放置于窑炉下面的位置也可以不固定,但要使水蒸汽可以很顺利的被吸入窑内。
  基本原理是在炉内高温辐射的作用下,水被辐射加热而加速蒸发,热的水蒸汽上升而由吸火口处负压吸入窑内,在窑内的高温下水可以分解成氢和氧,氢具有很强的还原能力;同时因为水蒸汽的密度小于空气的密度,更容易在吸火口处上升进入窑内,迫使外面的空气不易进入窑内,有利于保持窑内的还原气氛。
  与现有技术相比,具有如下优点和有益效果可以很好的避免烧制陶瓷时的高温氧化问题,大大提高青瓷产品的质量,节约燃料、减少污染;并且具有成本低,易操作等优点。
  在梭式窑中烧制青瓷坯体,步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑,在500℃高温保温60分钟时,在梭式窑1下方的吸火口3处放置盛有1.5升水的不锈钢制圆形敞口容器2,敞口容器2的敞口面积可以完全覆盖住吸火口3的垂直投影面积。
  在梭式窑中烧制青瓷坯体,步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑,在1400℃高温保温30分钟时,在梭式窑1下方的吸火口3处放置盛有2升水的铝制矩形敞口容器2,敞口容器2的敞口面积可以完全覆盖住吸火口3的垂直投影面积。
  在梭式窑中烧制青瓷坯体,步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑,在1000℃高温保温45分钟时,在梭式窑1下方的吸火口3处放置盛有1升水的陶瓷制椭圆形敞口容器2,敞口容器2的敞口面积可以完全覆盖住吸火口3的垂直投影面积。
  采用不锈钢制菱形敞口容器2,其他同实施例一。
  采用陶瓷制三角形敞口容器2,其他同实施例三。
  所烧制出的青瓷产品外观玲珑剔透,显得饱满柔和淡雅,温润如玉;而按照普通方法,在梭式窑中相同的烧成温度下,烧制相同配方的青瓷坯体,烧制出来的产品是带黄色的。
  如上所述,便可较好地实现。
  权利要求
  1.梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法,步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑,其特征在于在梭式窑温度为500~1400℃,保温30~60分钟时,将盛有1~2升水的敞口容器置于梭式窑下方的吸火口处,敞口容器的面积不小于吸火口的垂直投影面积。
  2.根据权利要求1所述梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法,其特征在于所述敞口容器的上部敞口形状包括矩形、圆形、椭圆形、菱形或三角形。
  3.根据权利要求1所述梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法,其特征在于所述敞口容器的材质包括不锈钢、铝或陶瓷。
  梭式窑可控制还原气氛烧成陶瓷方法,步骤包括升温、干燥、烧成、保温、冷却、出窑,在梭式窑温度为500~1400℃,保温30~60分钟时,将盛有水敞口容器置于梭式窑下方的吸火口处,敞口容器的面积不小于吸火口的垂直投影面积。本方法可以很好的避免烧制陶瓷时的高温氧化问题,大大提高青瓷产品的质量,节约燃料、减少污染;并且具有成本低,易操作等优点。